4月17日上午，物理与电气工程学院鹿国庆博士在教学楼C105教室为本院2013级光电信息科学与工程专业学生做了题为“极紫外光学元件表面污染在线检测手段和技术”的学术报告。

极紫外光刻（EUVL）技术作为22-11nm节点的主流光刻技术，其中极紫外多层膜光学元件的表面污染和防护是制约EUVL在大规模生产领域应用的关键之一，因此有必要探讨具有实际应用价值的表面污染检测手段和技术。报告中鹿博士首先简要介绍了极紫外光刻系统的原理、反射镜膜层结构以及表面污染产生的机理，指出光刻系统中实时、“在线”检测的技术要求，详细阐述EUV诱导光电子流、二次电子发射、激光激励表面声波和保偏光纤椭偏仪几种主要表面检测手段和技术的特点，给出了每种方法在极紫外光学系统中的应用潜力，最后，指出光纤椭偏仪在极紫外光学系统的“在线” 表面污染检测中具有良好的应用前景。

鹿博士的报告图文并茂、深入浅出，引起了在场学生对科技前沿课题的极大兴趣，现场气氛十分活跃，通过此次报告使得光电信息科学与工程专业的学生对于光电技术在科技前沿领域的应用有了初步认识，特别是对极紫外光刻以及光学元件表面污染检测手段和技术有了进一步的了解，大大激发了他们的专业学习兴趣。（物理与电气工程学院 王鹏）